在線(xiàn)真空等離子清洗機介紹：
等離子清洗設備的原理是在真空下, 然后利用交流電場(chǎng)使工藝氣體成為等離子體, 并與有機污染物及微顆粒污染物反應或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì), 由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去, 從而使工件達到表面清潔活化。等離子清洗是剝離式清洗, 等離子清洗的特點(diǎn)是清洗之后對環(huán)境無(wú)污染。在線(xiàn)式等離子清洗設備是在成熟的等離子體清洗工藝技術(shù)和設備制造基礎上, 增加上下料、物料傳輸等自動(dòng)化功能。針對IC封裝中引線(xiàn)框架上點(diǎn)膠裝片、芯片鍵合及塑封等工藝前清洗, 大大提高粘接及鍵合強度等性能的同時(shí), 避免人為因素長(cháng)時(shí)間接觸引線(xiàn)框架而導致的二次污染以及腔體式批量清洗時(shí)間長(cháng)有可能造成的芯片損傷。
在線(xiàn)式真空等離子清洗機的主要結構包括:上下料推料機構、上下料置取料平臺、上下料提升系統、上下料傳輸系統、上下料撥料機構、反應倉、設備主體框架和電氣控制系統等。
在線(xiàn)式真空等離子清洗機自動(dòng)搬運物料的設計理念,與常規等離子清洗系統相比,降低了人工搬運過(guò)成,提高了設備自動(dòng)化水平。
等離子清洗原理：
等離子清洗屬于一種高精密的干式清洗方式,原理是在真空狀態(tài)下利用射頻源產(chǎn)生的高壓交變電場(chǎng)將氧、氬、氫等工藝氣體激發(fā)成具有高反應活性或高能量的離子,通過(guò)化學(xué)反應或物理作用對工件表面進(jìn)行處理,實(shí)現分子水平的沾污去除(一般厚度為3~30nm),提高表面活性。對應不同的污染物,應采用不同的清洗工藝,達到最佳的清洗效果。清洗原理見(jiàn)圖1、圖2、圖3及反應式:
化學(xué)清洗:表面反應以化學(xué)反應為主的等離子體清洗。
氧等離子體通過(guò)化學(xué)反應可使非揮發(fā)性有機物變成易揮發(fā)的H2O和CO2,見(jiàn)圖1。
氫等離子體通過(guò)化學(xué)反應可以去除金屬表面氧化層,清潔金屬表面,見(jiàn)圖2。
物理清洗:表面反應以物理反應為主的等離子體清洗，見(jiàn)圖3。
隨著(zhù)在線(xiàn)式真空等離子清洗機及工藝在IC封裝領(lǐng)域內的應用越來(lái)越廣泛,并以其優(yōu)良的工藝性能促進(jìn)了微電子行業(yè)技術(shù)的快速發(fā)展,成為21世紀IC封裝領(lǐng)域內關(guān)鍵生產(chǎn)裝置,成為提高產(chǎn)品可靠性和成品率的重要手段,是生產(chǎn)中不可缺少的步驟。
